标准编号：GB/T 36646-2018

中文名称：制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备

英文名称：Equipment for preparation of nitride semiconductor materials by hydride vapor phase epitaxy

发布日期：2018-09-17

实施日期：2019-01-01

代替标准：

标准类别：

采标号：None

采标名称：None

采标程度：

采标类型：

ICS：

CCS：