标准编号：GB/T 14849.4-2014

中文名称：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

发布日期：2014-12-05

实施日期：2015-08-01

代替标准：GB/T 14849.4-2008

标准类别：

采标号：None

采标名称：None

采标程度：

采标类型：

ICS：

CCS：